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    Instandhaltung & Wartung

    Verschleißteilwechsel für Produktionsanlagen der Halbleiterindustrie

    Lassen Sie Verschleißteile und Verbrauchsmaterialien (Parts Refurbishment) in Prozessanlagen der Halbleiterindustrie im Rahmen eines Werkvertrages planmäßig von uns austauschen, abgestimmt auf Wafer-Durchsatz und Standzeit.

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    Unser Service im Bereich Parts Refurbishment

    Welche Verschleißteile maintech standardmäßig austauscht

    Welche Verschleißteile maintech standardmäßig austauscht

    Bei jedem Öffnen einer Prozesskammer tauschen wir die Komponenten aus, die durch Plasma, Chemikalien oder mechanische Belastung verschleißen. Dazu zählen O-Ringe und Dichtungen an Kammerdeckel, Flanschen, Ventilen und Sichtfenstern ebenso wie die Kammerinnenverkleidung aus Quarz, Keramik oder beschichtetem Aluminium. Fokusringe, Edge Rings und Cover Rings rund um den Wafer ersetzen wir nach ihrer Standzeit, da sie das elektrische Feld am Waferrand direkt beeinflussen. Ergänzend tauschen wir Showerheads, Gasverteilerplatten und Baffle-Platten aus, die für eine gleichmäßige Gasverteilung im Prozess sorgen. Jeder Wechsel folgt einem festen Verfahren, damit die Prozessparameter Ihrer Anlage danach wieder exakt der Spezifikation entsprechen.

    Wartungszyklen: So planen wir den Verschleißteilwechsel

    Wartungszyklen: So planen wir den Verschleißteilwechsel

    Der Zeitpunkt für den Verschleißteilwechsel ergibt sich aus mehreren Parametern, die wir mit Ihrem präventiven Wartungskonzept (Preventive Maintenance) abstimmen und über Ihr Manufacturing Execution System oder Advanced Process Control steuern. Bei Ätz- und CVD-Anlagen zählt der Wafer-Durchsatz oder die aktive Plasma-Laufzeit als primärer Auslöser, häufig in festen Intervallen wie alle 5.000 oder 10.000 Wafer. Bei PVD- und CVD-Prozessen berücksichtigen wir zusätzlich die kumulierte Schichtdicke an den Kammerwänden, da eine zu dicke Ablagerung zu Partikel-Abplatzungen führen kann. Feste Standzeiten von 30, 60 oder 90 Tagen verhindern, dass Dichtungen altern oder sich chemische Rückstände zersetzen, unabhängig vom tatsächlichen Durchsatz. Ergänzend werten wir Partikel-Qualifikationsmessungen und Prozessabweichungen bei Ätzrate oder Schichtgleichmäßigkeit aus. Überschreiten diese Werte einen festgelegten Grenzwert, planen wir einen außerplanmäßigen Wechsel ein, bevor sich die Abweichung auf Ihre Produktion auswirkt.

    Wirkung auf Ausschussrate und Anlagenverfügbarkeit

    Wirkung auf Ausschussrate und Anlagenverfügbarkeit

    Ein rechtzeitiger Verschleißteilwechsel wirkt sich messbar auf drei Fehlerbilder aus, die in der Halbleiterfertigung einen Großteil der Yield-Verluste verursachen. Reaktionsnebenprodukte lagern sich im laufenden Prozess an Kammerschutzschilden und Linern ab und platzen bei überschrittener Schichtdicke als Partikel auf den Wafer. Ein rechtzeitiger Wet Clean senkt die partikelbedingte Defektdichte typischerweise um 50 bis 80 % gegenüber einer überfahrenen Kammer, ein wirksamer Hebel, da Partikel für bis zu 70 % aller Yield-Verluste im Front-End verantwortlich sind. Ausgehärtete oder verzogene O-Ringe verursachen Mikrolecks, die im ungünstigsten Fall eine komplette Wafer-Charge unbrauchbar machen. Der verbindliche O-Ring-Wechsel bei jedem Kammeröffnen senkt dieses Risiko auf ein Minimum. Ein verschlissener Fokusring verändert außerdem das elektrische Feld am Waferrand: Ätzrate und Schichtdicke driften ab, wodurch die äußeren 5 bis 10 Millimeter des Wafers unbrauchbar werden können. Der zyklische Wechsel sichert diesen Edge Yield und schützt so 2 bis 8 % der nutzbaren Chips pro Wafer.

    Ihre Vorteile 

    maintech verbindet den planmäßigen Verschleißteilwechsel mit Ihrem bestehenden Wartungskonzept für die Halbleiterindustrie. Das schützt Ihre Ausschussrate und sichert die Verfügbarkeit Ihrer Prozessanlagen.

    Verschleißteilwechsel nach Wafer-Durchsatz und Standzeit

    Wir planen den Austausch von Dichtungen, Fokusringen und weiteren Verbrauchsmaterialien nach Ihren MES- und APC-Daten, nicht nach starren Kalenderintervallen allein. 

    Geschützte Ausschussrate durch planmäßigen Wechsel

    Der rechtzeitige Wechsel verschlissener Komponenten verhindert Partikel-Defekte und Vakuum-Excursions, bevor sie ganze Wafer-Chargen unbrauchbar machen. 

    Nahtlose Integration in Ihre Systeme

    Wir dokumentieren jeden Verschleißteilwechsel direkt in Ihrem MES oder ERP-System und folgen Ihren bestehenden SOPs, für lückenlose Nachverfolgbarkeit. 


    Jetzt maintech kennenlernen
    maintech - Ihr Partner für die Halbleiterindustrie

    Infineon - ein Kunde von maintech

    Referenz

    Verschleißteilwechsel bei Infineon Dresden 

    Infineon Technologies zählt mit rund 57.000 Beschäftigten weltweit zu den führenden Halbleiterherstellern. Am Standort Dresden hat Infineon im Sommer 2026 die weltweit größte Fabrik für Leistungshalbleiter sowie Analog- und Mixed-Signal-Technologien eröffnet, mit einer entsprechend hohen Zahl aktiver Ätz-, CVD- und PVD-Anlagen im Reinraum. maintech übernimmt hier den planmäßigen Verschleißteilwechsel an den Prozesskammern, abgestimmt auf die Wafer-Durchsätze der jeweiligen Anlage und eingebunden in die bestehende Reinraum Wartung vor Ort. Jeder Wechsel wird direkt im MES dokumentiert, damit die Fertigung durchgängig nachvollziehbar bleibt.

    „Wir schätzen an der maintech service GmbH die hohe Qualität der Ausführung und die unkomplizierte, professionelle und partnerschaftliche Zusammenarbeit. Absprachen sitzen, Termine werden eingehalten und die Ergebnisse passen. So wünscht man sich (s)einen Dienstleister.“

    Lutz Schimeisky
    MEA Professional Training GmbH & Co. KG

    Sie möchten Verschleißteilwechsel für Ihre Halbleiter-Anlagen strukturiert und planbar umsetzen.

    Dann sprechen Sie mit uns über Ihre Anforderungen. Ob Reinraum, Bestandsanlage, auditrelevante Prüfstruktur oder technische Unterstützung im laufenden Betrieb: Wir begleiten Sie mit klarem Prozessverständnis und belastbarer Umsetzung.

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    Häufig gestellte Fragen zu Verschleißteilwechsel

    Zu den Verschleißteilen zählen vier Bauteilgruppen. Bei O-Ringen und Dichtungen sind das Kammerdeckel-Dichtungen aus FFKM (Kalrez) oder Viton (FKM), Dichtungen an Flanschen, Ventilen und Sichtfenstern sowie Tür- und Pendelventildichtungen (Slit Valve Seals). Bei den Kammerinnenverkleidungen tauschen wir Kammer-Liner aus Quarz, Keramik (Al2O3) oder beschichtetem Aluminium, Partikelschutz-Abschirmungen (Upper, Lower und Side Shields) sowie Wandabdeckungen und Deposition-Baffel. An den Wafer-Umgebungsbauteilen ersetzen wir Fokusringe aus Silizium, Siliziumcarbid oder Quarz sowie Edge Rings, Edge Protection Rings, Cover Rings und Ground Rings. Bei der Gasverteilung tauschen wir Showerheads und Gas Distribution Plates, Gas-Injektordüsen mit Quarzringen sowie Baffle-Platten für eine gleichmäßige Gasverteilung.
    Beide Komponenten zählen zu den kritischen Bauteilen, die wir im Rahmen des Verschleißteilwechsels im Blick behalten. Target-Materialien in PVD-Anlagen verschleißen durch den kontinuierlichen Materialabtrag während der Beschichtung und werden nach ihrem Nutzungsgrad ausgetauscht. HF-Generatoren zählen zu den kritischen Anlagenkomponenten, deren Zustand wir im Rahmen des Wartungskonzepts überwachen und bei Bedarf instand setzen. Für beide Bauteilgruppen legen wir die Wechselintervalle anlagenspezifisch mit Ihnen fest, da sie stark vom jeweiligen Prozess und Anlagentyp abhängen.

    Das hängt vom Bauteil, der Anlage und dem Prozess ab. Bei Ätz- und CVD-Anlagen ist der Wafer-Durchsatz oder die aktive Plasma-Laufzeit (RF-On Hours) der primäre Zähler, häufig in festen Intervallen wie alle 5.000 oder 10.000 Wafer. Bei PVD- und CVD-Prozessen zählt zusätzlich die kumulierte Schichtdicke, die sich auf den Kammerwänden aufbaut: Erreicht sie einen kritischen Wert, planen wir den Wet Clean unabhängig vom Wafer-Zähler ein. Parallel dazu gelten feste Standzeiten von 30, 60 oder 90 Tagen, unabhängig vom Durchsatz, um Alterungseffekte an Dichtungen und die chemische Zersetzung von Rückständen zu verhindern. Bei längeren Stillstandszeiten der Kammer außerhalb der Produktion kann zusätzlich ein vorgezogener Wet Clean nötig werden.

    Zeitbasierte Wechsel folgen festen Kalenderintervallen oder Durchsatzzahlen, unabhängig vom tatsächlichen Zustand der Bauteile. Zustandsbasierte Wechsel reagieren zusätzlich auf laufende Messwerte: Bei der täglichen Partikel-Qualifikation (PQC) prüfen wir Testwafer, und überschreitet die Partikelanzahl einen Grenzwert, planen wir einen außerplanmäßigen Wet Clean ein. Ebenso werten wir Prozessabweichungen aus, etwa bei Ätzraten, Schichtgleichmäßigkeit oder den Spannungsverläufen an Matchbox und elektrostatischem Chuck (ESC), da sie frühzeitig auf den Verschleiß von Fokusringen hinweisen. In der Praxis kombinieren wir beide Ansätze, damit Ihre Anlage weder zu früh noch zu spät gewartet wird.

    Der Fokusring umschließt den Wafer während des Ätz- oder Beschichtungsprozesses und formt das elektrische Feld an dessen Rand. Verschleißt er, verändert sich dieses Feld: Ätzrate und Schichtdicke driften ab, wodurch die äußeren 5 bis 10 Millimeter des Wafers unbrauchbar werden können. Da diese Randzone bei jedem Wafer betroffen ist, wirkt sich ein verschlissener Fokusring direkt auf den sogenannten Edge Yield aus. Der zyklische, planmäßige Wechsel des Fokusrings verhindert diesen schleichenden Verlust von 2 bis 8 % der nutzbaren Chips pro Wafer.

    Er wirkt sich auf zwei Arten aus. Erstens verhindert er partikelbedingten Ausfall: Reaktionsnebenprodukte lagern sich im laufenden Prozess an Kammerschutzschilden und Linern ab und platzen bei überschrittener Schichtdicke als Partikel auf den Wafer. Ein rechtzeitiger Wet Clean senkt die partikelbedingte Defektdichte typischerweise um 50 bis 80 % gegenüber einer überfahrenen Kammer, ein wirksamer Hebel, da Partikel für bis zu 70 % aller Yield-Verluste im Front-End verantwortlich sind. Zweitens vermeidet er Yield-Excursions: Ausgehärtete oder verzogene O-Ringe verursachen Mikrolecks, durch die Vakuum verloren geht oder Sauerstoff beziehungsweise Luftfeuchtigkeit in die Kammer gelangt. Im ungünstigsten Fall wird dadurch eine komplette Wafer-Charge von bis zu 25 Wafern pro FOUP unbrauchbar. Der verbindliche O-Ring-Wechsel bei jedem Kammeröffnen senkt dieses Risiko auf ein Minimum.

    Der Verschleißteilwechsel ist ein eigenständiger Baustein innerhalb unserer Instandhaltung, auch wenn er eng mit anderen Leistungen zusammenhängt. Während die Reinraum Wartung die Reinigung und Kalibrierung ganzer Anlagen wie Lithographie-Systeme, Ätzanlagen, CVD- und PVD-Beschichtungsanlagen umfasst, konzentriert sich der Verschleißteilwechsel gezielt auf Verbrauchsmaterialien und kritische Bauteile innerhalb der Prozesskammer. Für eine tiefere, spezialisierte Dekontamination von Kammerbauteilen setzen wir ergänzend die Prozesskammer-Reinigung ein. In der Praxis planen wir alle drei Leistungen so, dass sie sich sinnvoll ergänzen, statt sich zu überschneiden.

    Wir übernehmen den Verschleißteilwechsel unter anderem an Ätzanlagen, CVD- und PVD-Beschichtungsanlagen sowie Ionenimplantierern, jeweils im 200-Millimeter- und 300-Millimeter-Bereich. Welche Bauteile in welchem Zyklus getauscht werden, richten wir nach dem jeweiligen Anlagentyp und Prozess aus: Bei Ätzanlagen stehen häufig Fokusringe und Kammer-Liner im Vordergrund, bei PVD-Anlagen zusätzlich die Target-Materialien, bei CVD-Anlagen die Schichtdicke an Shields und Baffeln. Sprechen Sie uns zu Ihrem konkreten Anlagenpark an, wir stimmen die Zyklen individuell mit Ihnen ab.

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